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J-GLOBAL ID：200903091658220390

回転式基板塗布装置

Inventor： 真田 雅和
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995269495
Publication number (International publication number)：1997085156
Application date： Sep. 21, 1995
Publication date： Mar. 31, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 塗布液供給ノズルの水平断面形状を工夫することによって、所望膜厚の塗布被膜を得るために供給する塗布液の量を極めて少なくすることができる回転式基板塗布装置を提供する。【解決手段】 ノズル部41は、水平断面形状が八角形状である吐出孔47とノズル部下面41aを形成されており、塗布液供給ノズルの塗布液通路42を圧送されてきたフォトレジスト液を、ほぼその形状で基板の表面に吐出する。基板の回転中心付近に滴下されたフォトレジスト液は、各頂点部分から周方向に曲げられながら伸長する幅広のヒゲを生じ、その間から直線的に伸長するヒゲを生じ、これらの相互作用により隙間を急激に狭めることができる。

Claim (excerpt)：

回転支持手段により基板を所定の回転数で低速回転させつつ、その回転中心付近に塗布液供給ノズルを介して塗布液を供給し、その後に前記回転数を所定の回転数で高速回転させることによって基板表面に所定膜厚の塗布被膜を形成する回転式基板塗布装置において、前記塗布液供給ノズルは、少なくとも吐出孔が、その水平断面形状において非円形状に形成されていることを特徴とする回転式基板塗布装置。

IPC (5)：

B05C 11/08 ,  B05C 5/00 101 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (5)：

B05C 11/08 ,  B05C 5/00 101 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C