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J-GLOBAL ID：200903091667607656

パターン形成体およびその製造方法

Inventor：
小幡 勝也

About 小幡 勝也


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (2)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002269071
Publication number (International publication number)：2004109253
Application date： Sep. 13, 2002
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：
【課題】本発明は、簡便な工程での形成が可能であり、フォトマスクを介する方法や電子線描画を用いる方法等によりエネルギーをパターン状に照射しなくとも、パターン形成が可能なパターン形成体およびその製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、光触媒の作用を阻害しまたは低下させる作用を有し、かつ光触媒反応阻害物質を含有する光触媒反応阻害性基材と、前記光触媒反応阻害性基材上にパターン状に形成されている遮蔽層と、前記遮蔽層がパターン状に形成されている前記光触媒反応阻害性基材上に成膜され、エネルギー照射により表面の濡れ性が変化する光触媒含有層とを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
光触媒の作用を阻害しまたは低下させる作用を有し、かつ光触媒反応阻害物質を含有する光触媒反応阻害性基材と、前記光触媒反応阻害性基材上にパターン状に形成されている遮蔽層と、前記遮蔽層がパターン状に形成されている前記光触媒反応阻害性基材上に成膜され、エネルギー照射により表面の濡れ性が変化する光触媒含有層とを有することを特徴とするパターン形成体。
IPC (7)：
G02B5/20 ,  B05D1/36 ,  B05D3/06 ,  B05D7/24 ,  G02B3/00 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (7)：
G02B5/20 101 ,  B05D1/36 Z ,  B05D3/06 Z ,  B05D7/24 303B ,  G02B3/00 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
F-Term (34)：
2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AE03 ,  4D075BB41Z ,  4D075CA37 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA10 ,  4D075EA45 ,  4D075EB12 ,  4D075EB13 ,  4D075EB14 ,  4D075EB15 ,  4D075EB19 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB33 ,  4D075EB35 ,  4D075EB38 ,  4D075EB39 ,  4D075EB43 ,  4D075EC01 ,  4H020BA32
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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