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J-GLOBAL ID：200903091669505788
光ディスク用原盤作成装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993064733
Publication number (International publication number)：1994251430
Application date： Mar. 01, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：
【要約】【目的】 光ディスク用原盤作成装置の光ディスク用原盤の基板にレジストが塗布された後に熱処理されてから記録工程に送られるフォトリソ工程において、レジストの感度の安定化を図り、大容量メディア(1〜2GByte)の1.2μmピッチ程度の稠密パターンの光ディスク用原盤を作成する光ディスク用原盤作成装置を提供する。【構成】 光ディスク用原盤の基板にレジストが塗布された後に熱処理されてから記録工程に送られる光ディスク用原盤作成装置において、基板1aにレジスト1bが塗布された後に熱処理された光ディスク用原盤1の溶剤濃度の変化を制御するために、内部の雰囲気ガス2の温度変化を最小にする保温手段3を備えた。
Claim (excerpt)：
光ディスク用原盤の基板表面にフォトレジストを塗布した後に熱処理を施してから、該基板を記録工程において露光してその表面に記録を行う光ディスク用原盤作成装置において、該基板にレジストが塗布された後に熱処理された基板上のフォトレジスト中の溶剤濃度の変化を制御するために、内部の雰囲気ガスの温度変化を最小にする保温手段を備えた保管部を設けたことを特徴とする光ディスク用原盤作成装置。
Patent cited by the Patent：
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