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J-GLOBAL ID：200903091678514510
気相成長装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998142964
Publication number (International publication number)：1999335848
Application date： May. 25, 1998
Publication date： Dec. 07, 1999
Summary：
【要約】【課題】反応ガス等が整流板に付着するのを防止し、もってガスを被処理体に連続して均等に供給できることを課題とする。【解決手段】ガスの導入口19,ガス排出口20を夫々有し、内部に被処理体13が載置される真空容器11と、この真空容器11内で前記被処理体13の上方にほぼ平行に配置され、前記導入口19から送給されてきたガスを前記被処理体13に流す整流板14とを具備する気相成長装置において、前記整流板14は、内部に抵抗加熱ヒータ17が埋め込まれた多孔体フィルター16であることを特徴とする気相成長装置。
Claim (excerpt)：
ガスの導入口,排出口を夫々有し、内部に被処理体が載置される真空容器と、この真空容器内で前記被処理体の上方にほぼ平行に配置され、前記導入口から送給されてきたガスを前記被処理体に流す整流板とを具備する気相成長装置において、前記整流板は、内部にヒータが埋め込まれた多孔体フィルターであることを特徴とする気相成長装置。
IPC (2)：
FI (2)：
C23C 16/44 J
, H01L 21/205
