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J-GLOBAL ID：200903091705296600

膜形成用組成物

Inventor： 黒澤 孝彦 ,  篠田 智隆 ,  山田 欣司
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 渡辺 喜平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997331449
Publication number (International publication number)：1999157838
Application date： Dec. 02, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 塗布膜の厚さの均一性、誘電率特性、酸素プラズマアッシング耐性及び下地に対する密着性に優れた膜形成用組成物(層間絶縁膜用材料)を提供する。【解決手段】 膜形成用組成物であって、下記一般式(1)で表されるアルキルアルコキシランの加水分解物および/またはその部分縮合物と、下記一般式(2)で表されるキレート化合物と、有機溶媒とを含む。R1nSi(OR2)4-n(1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、nは1〜2の整数を表す。)R3tM(OR4)4-t(2)(R3 はキレート剤、Mはチタンまたはジルコニウム、R4 は炭素数2〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、tは1〜4の整数を表す。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表されるアルキルアルコキシランの加水分解物および/またはその部分縮合物と、下記一般式(2)で表されるチタンのキレート化合物およびジルコニウムのキレート化合物あるいはいずれか一方のキレート化合物と、乳酸エチル、メトキシメチルプロピオネートおよびエトキシエチルプロピオネートからなる群から選択された少なくとも一つの有機溶媒とを含むことを特徴とする膜形成用組成物。R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、nは1〜2の整数を表す。)R3tM(OR4)4-t (2)(R3 はキレート剤、Mはチタンまたはジルコニウム、R4 は炭素数2〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、tは1〜4の整数を表す。)

IPC (5)：

C01G 23/053 ,  C01B 33/149 ,  C01G 25/02 ,  C09D183/02 ,  H01L 21/312

FI (5)：

C01G 23/053 ,  C01B 33/149 ,  C01G 25/02 ,  C09D183/02 ,  H01L 21/312 C