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J-GLOBAL ID：200903091755413039
遠紫外線露光用感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997301785
Publication number (International publication number)：1998133371
Application date： Jul. 14, 1993
Publication date： May. 22, 1998
Summary：
【要約】【課題】 波長が220nm以下の遠紫外光に対し高透明性を有し、高感度で形状の良い微細パターンを形成し、遠紫外線、例えばArFエキシマレーザ(193.3nm)露光用化学増幅型レジストとして有用な感光樹脂組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)に示すアルキルスルホニウム塩(R1 およびR2 は炭素数1ないし8の直鎖状、分枝状、又は環状アルキル基、R3 は炭素数1ないし8の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基、炭素数5ないし7の2-オキソ環状アルキル基、あるいは炭素数3ないし8の2-オキソ直鎖状または分枝状アルキル基、Y- は対イオン)を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。および当該感光性樹脂組成物の薄膜を基板上に形成し、波長が220nm以下の光を露光光とすることで微細パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
Claim (excerpt)：
下記の一般式(I)で表されるアルキルスルホニウム塩を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。【化1】(ただし、R1 およびR2 は直鎖状、または分枝状のアルキル基、R3 は2-オキソ環状アルキル基、あるいは2-オキソ直鎖状または分枝状アルキル基、Y-は対イオンを表す。)
IPC (4)：
G03F 7/029
, C08K 5/372
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/029
, C08K 5/372
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
