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J-GLOBAL ID：200903091760870022

面状光学素子の製造方法

Inventor： 山 本 学 ,  岡 部 将 人 ,  小 林 弘 典
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998273452
Publication number (International publication number)：2000098103
Application date： Sep. 28, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 極めて容易な方法で各素子が正確に位置合わせされた面状光学素子を作成できる、自由度の高い面状光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 露光により濡れ性の変化する光触媒含有層を表裏両面に有する支持体の表裏両面に、同時または前記支持体を固定したまま片面ずつ逐次にパターン露光を行うことにより濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記光触媒含有層を有する支持体の表裏両面に形成された濡れ性の違いによるパターンに、それぞれの濡れ性パターンに対応した光学素子を形成する工程と、を含むことを特徴とする、支持体両面に形成された光学素子間の位置精度が高い、面状光学素子の製造方法。

Claim (excerpt)：

露光により濡れ性の変化する光触媒含有層を表裏両面に有する支持体の表裏両面に、同時または前記支持体を固定したまま片面ずつ逐次に、パターン露光を行うことにより濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記光触媒含有層を有する支持体の表裏両面に形成された濡れ性の違いによるパターンに、それぞれの濡れ性パターンに対応した光学素子を形成する工程と、を含むことを特徴とする、支持体両面に形成された光学素子間の位置精度が高い、面状光学素子の製造方法。

IPC (5)：

G02B 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/30 349 ,  G09F 9/30

FI (6)：

G02B 3/00 A ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/30 349 B ,  G09F 9/30 349 C ,  G09F 9/30 349 Z

F-Term (22)：

2H048BA60 ,  2H048BB02 ,  2H048BB10 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  2H048BB46 ,  2H091FA29Z ,  2H091FA34Y ,  2H091FB04 ,  2H091FC01 ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091FD12 ,  2H091GA01 ,  2H091LA12 ,  5C094AA43 ,  5C094BA43 ,  5C094ED02 ,  5C094ED15 ,  5C094FB01 ,  5C094GB01 ,  5C094HA10