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J-GLOBAL ID：200903091815395655

乾燥状態または湿潤状態において再帰反射性が高められた再帰反射要素の製造方法

Inventor： ヘッドブロム,トーマス ピー. ,  ライス,エリック イー.
Applicant, Patent owner： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000577018
Publication number (International publication number)：2002527652
Application date： Jul. 29, 1999
Publication date： Aug. 27, 2002
Summary：

【要約】露出レンズ光学要素を含む再帰反射要素を、(a)露出レンズ光学要素の単層(12)、間隔層(14)、および反射層(16)を含む少なくとも1つの再帰反射物品を提供するステップと、(b)コア層(18)を形成するステップと、(c)再帰反射物品をコア層に取付け、再帰反射複合材料を得るステップと、(d)複合材料を再帰反射要素に分割するステップと、によって作ることができる。再帰反射要素は、乾燥および/または湿潤状態において再帰反射性であり、選択された表面上に配置できる。

Claim (excerpt)：

露出レンズ光学要素を含む再帰反射要素の製造方法であって、 (a)露出レンズ光学要素の単層、間隔層、および反射層を含む少なくとも1つの再帰反射物品を提供するステップと、 (b)コア層を形成するステップと、 (c)前記再帰反射物品を前記コア層に取付け、再帰反射複合材料を得るステップと、 (d)前記複合材料を再帰反射要素に分割するステップと、を特徴とする、再帰反射要素の製造方法。

IPC (3)：

E01F 9/04 ,  G02B 5/128 ,  G09F 19/22

FI (3)：

E01F 9/04 ,  G02B 5/128 ,  G09F 19/22 H

F-Term (18)：

2D064AA03 ,  2D064AA06 ,  2D064AA22 ,  2D064BA01 ,  2D064CA03 ,  2D064CA05 ,  2D064CA07 ,  2D064CA09 ,  2D064DA05 ,  2D064DA06 ,  2D064EB26 ,  2D064JA01 ,  2D064JA02 ,  2H042EA04 ,  2H042EA07 ,  2H042EA12 ,  2H042EA14 ,  2H042EA19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 2種のレフレクターを有する再帰反射性物品
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平7-530305   Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー