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J-GLOBAL ID：200903091832119220
ポジ型レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997200017
Publication number (International publication number)：1998115925
Application date： Jul. 25, 1997
Publication date： May. 06, 1998
Summary：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザー光に対する透明性が高く、かつ感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性が優れた化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び(B)酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、前記(A)成分のアクリル系樹脂が、構成単位として、ヒドロキシビシクロ[3.1.1]ヘプタノン又はその低級アルキル置換体のアクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導される単位を含む重合体又は共重合体を使用する。
Claim (excerpt)：
(A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び(B)酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、前記(A)成分のアクリル系樹脂が、構成単位として、ヒドロキシビシクロ[3.1.1]ヘプタノン又はその低級アルキル置換体のアクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導される単位を含む重合体又は共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
, C08F 20/04
, C08F 20/12
, C08F 20/28
G03F 7/039 601
, C08F 20/04
, C08F 20/12
, C08F 20/28
, H01L 21/30 502 R
