Pat

J-GLOBAL ID：200903091843586369

レーザ回折法を利用した噴霧計測方法とその装置

Inventor： 古谷 雄二 ,  井上 晃 ,  飯野 賢一
Applicant, Patent owner： 株式会社ゼクセル
Agent (1)： 大貫 和保 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996269241
Publication number (International publication number)：1998090157
Application date： Sep. 19, 1996
Publication date： Apr. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 レーザ回折法を用いて高密度噴霧を精度よく計測することができ、各局所の噴霧情報のみならず、噴霧全体をも的確に評価することができるレーザ回折法を用いた噴霧計測方法とその装置を提供する。【解決手段】 噴霧が供給される噴霧空間に一対の遮蔽部材16、17を所定の隙間を開けてレーザ光路を覆うように対峙させ、遮蔽部材間を通過する噴霧にレーザビーム20を照射し、噴霧を通過したレーザビームを光電変換素子で受け、この光電変換素子からの出力に基づいて被測定局所空間の噴霧情報を得る。被測定局所空間を噴霧空間に対して相対的にレーザビームと同方向又は直角方向に所定ピッチでトラバースさせ、各ピッチ毎に噴霧情報を得る。噴霧の各局所のみならず全体の情報を多重散乱の影響なく得ることができる。

Claim (excerpt)：

噴霧が供給される噴霧空間に前記噴霧を遮る一対の遮蔽部材を所定の隙間を開けてレーザ光路を覆うように対峙させ、前記遮蔽部材間を通過する噴霧に一方の遮蔽部材側からレーザビームを照射し、噴霧を通過した前記レーザビームを他方の遮蔽部材側に設けられた光電変換素子で受け、この光電変換素子からの出力に基づいて前記遮蔽部材間に構成される被測定局所空間の噴霧情報を得るようにしたレーザ回折法を利用した噴霧計測方法において、前記被測定局所空間を前記噴霧空間に対して相対的に前記レーザビームと同方向又は直角方向に所定ピッチでトラバースさせ、各ピッチ毎にレーザビームの照射によって得られる光電変換素子からの出力をサンプルデータとして収集し、この収集された複数のサンプルデータから各局所空間の噴霧情報を得るようにしたことを特徴とするレーザ回折法を利用した噴霧計測方法。