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J-GLOBAL ID：200903091848101185

薄膜磁気ヘツドの製造方法

Inventor： 西野 浩己 ,  向井 厚雄 ,  藤井 暁義 ,  川西 真人 ,  吉川 光彦
Applicant, Patent owner： シヤープ株式会社
Agent (1)： 小森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991301850
Publication number (International publication number)：1993143929
Application date： Nov. 18, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：

【要約】【目的】この発明は、巻線型薄膜磁気ヘッドの製造時において、トラック間を隔てるヘッドギッャプ付近で上部磁気コアに不良が生じないようにする。【構成】 上部磁気コアの形成時に上部磁気コア形成部5aを形成する有機膜5を上部磁気コア6の膜厚より薄く形成し、この有機膜全体を覆うように軟磁性体層(6)を積層したのち、前記上部磁気コア形成部以外の部位を湿式エッチングにより除去するようにしたことにより、厚い上部磁気コアを高精度に加工できると同時に、上部磁気コアの両端部の突起形状をなくした。

Claim (excerpt)：

下部磁気コア上に複数トラックの導電体コイル層を絶縁層で被覆して形成したのち、以下の工程を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。(1) 前記複数トラックの導電体コイル層間に形成された絶縁層上に各トラックの上部磁気コアの形状に対応する形状の空間(以下「上部磁気コア形成部」という。)を空けて有機膜を前記上部磁気コアの膜厚より薄く形成する。(2) この有機膜全体を覆うように、上部磁気コアをなす軟磁性体層を積層する。(3) 前記上部磁気コア形成部以外の部位に形成された軟磁性体層を湿式エッチングにより除去する。(4) 前記有機膜を除去する。