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J-GLOBAL ID：200903091870574976

投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法

Inventor： 吉岡 均
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995201777
Publication number (International publication number)：1997036026
Application date： Jul. 14, 1995
Publication date： Feb. 07, 1997
Summary：

【要約】【目的】 オプティカルインテグレータを用いた照明系を利用し、被照射面を均一に照明し高集積度の半導体デバイスの製造を容易にした投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【構成】 光源からの光束を2次光源を形成する複数の微小レンズより成るオプティカルインテグレータを有する照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該オプティカルインテグレータの光入射側に該オプティカルインテグレータの複数の微小レンズのうち少なくとも1つの微小レンズを通過する光量を制御する光量制御手段を該オプティカルインテグレータの中心の微小レンズあるいは中心に対にして回転対称で正方形の頂点に位置する4つの微小レンズの少なくとも一方に有していること。

Claim (excerpt)：

光源からの光束を2次光源を形成する複数の微小レンズより成るオプティカルインテグレータを有する照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該オプティカルインテグレータの光入射側に該オプティカルインテグレータの複数の微小レンズのうち少なくとも1つの微小レンズを通過する光量を制御する光量制御手段を該オプティカルインテグレータの中心の微小レンズあるいは中心に対にして回転対称で正方形の頂点に位置する4つの微小レンズの少なくとも一方に有していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G02B 27/18 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 516 D ,  G02B 27/18 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D