ポジ型感光性組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996019001
Publication number (International publication number)：1997211864
Application date： Feb. 05, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】露光後の現像性が改善され溶解促進効果が向上し、更に露光後経時によるパターン形状変化、感度変化がなくなり、それにより感度、解像度、パターンプロファイルが向上したポジ型感光性組成物を提供することである【解決手段】特定の繰り返し単位を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)、(II)及び(III) で示される繰り返し単位を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】ここで、R1 は水素原子又はメチル基を表す。R2 は-C(=O)-O-C(R6 )(R7 )(R8 )又は-O-R5 -C(=O)-O-C(R6 )(R7 )(R8 )を表す。R3 は-O-C(R6 )(R7 )(R8 )、-O-Si(R6 )(R7 )(R8 )又は-O-C(R9 )(R10)-OR11を表す。R4 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基又はアシロキシ基を表す。R5 はアルキレン基を表す。R6 〜R10は各々同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基を表し、ここで、R6 〜R8 のうち少なくとも2つは水素原子以外の基である。R11はアルキル基又はアリール基を表す。R6 〜R8 、及びR9 〜R11のうち2つが結合して環を形成してもよい。nは1〜3の整数を表す。

IPC (2)：

G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-049097 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
遠紫外線用レジスト組成物及びこれを用いた微細パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-083199 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-266776 Applicant：信越化学工業株式会社

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