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J-GLOBAL ID：200903091929628889

抗菌性低刺激化粧料

Inventor：
森 秀司

About 森 秀司

, 
今堀 篤子

About 今堀 篤子


Applicant, Patent owner：
株式会社ノエビア

About 株式会社ノエビア


Agent (1)： 小川 篤子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997017512
Publication number (International publication number)：1998194915
Application date： Jan. 14, 1997
Publication date： Jul. 28, 1998
Summary：
【要約】【目的】 優れた抗菌作用を有し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけではなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【構成】 メリッサ(Melissa officinalis)の抽出物と、多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上を併用し含有させて成る。多価アルコールは、分子内に4個以下の水酸基を有するものが、多価アルコールのアルキルエーテルは、エチレングリコール,ジエチレングリコール,トリエチレングリコールのモノ及びジアルキルエーテル、プロピレングリコール,ジプロピレングリコールのモノ及びジアルキルエーテル、グリセリンのモノ,ジ及びトリアルキルエーテルが好ましい。
Claim (excerpt)：
多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上と、メリッサ(Melissa officinalis)の抽出物を併用することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。
IPC (8)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/50
FI (9)：
A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/50
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • 活性酸素抑制剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-262820   Applicant：御木本製薬株式会社
  • 皮膚化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-062521   Applicant：丸善製薬株式会社
  • 頭髪用化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-062830   Applicant：株式会社マンダム
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