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J-GLOBAL ID：200903091958671297

研磨剤粒子の回収方法

Inventor： 林 喜宏 ,  矢部 江一 ,  水庭 哲夫
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社 ,  日本電気株式会社
Agent (1)： 柳原 成
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994249851
Publication number (International publication number)：1996115892
Application date： Oct. 14, 1994
Publication date： May. 07, 1996
Summary：

【要約】【目的】 簡単な方法により、使用した研磨剤から半導体基板にキズを発生させる物質、研磨力を低下させる物質および不要な分散媒を除去し、使用可能なコロイダルシリカを効率よく回収する方法を得る。【構成】 半導体の研磨に使用したコロイダルシリカを含む研磨剤5を精密濾過装置1で精密濾過することにより、濃縮液側に粗大不純物を濃縮して除去し、その透過液6を限外濾過装置2で限外濾過して濃縮して、その濃縮液を回収することによりコロイダルシリカを回収する。

Claim (excerpt)：

半導体基板あるいはその上に形成された被膜の研磨に使用した研磨剤を精密濾過することにより、粗大不純物を濃縮液側に濃縮して除去し、その透過液を限外濾過により濃縮して、その濃縮液を回収することを特徴とする研磨剤粒子の回収方法。

IPC (3)：

H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304 ,  C09K 3/14 550