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J-GLOBAL ID:200903091963647817

光障害を分析するための遺伝子発現

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 川口 義雄 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002300727
Publication number (International publication number):2003245097
Application date: Oct. 15, 2002
Publication date: Sep. 02, 2003
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】光傷害を検出する肌のパーソナルケア方法を提供する。【解決手段】既知の肌状態を有する皮膚サンプルの第1の遺伝子発現と既知の肌状態を有していない皮膚サンプルの第2の遺伝子発現をを測定する。複数の光傷害のマーカーを使用し、遺伝子の発現を比較・評価する。光傷害マーカーとしてのポリヌクレオチド配列に提供される。
Claim (excerpt):
光障害を検出するパーソナルケア方法であって、(a)配列番号51、配列番号52、配列番号53、配列番号54、配列番号55、配列番号56、配列番号57、配列番号58、配列番号59、配列番号60、配列番号61、配列番号62、配列番号63、配列番号64、配列番号65、配列番号66、配列番号67、配列番号68、および配列番号69からなる群から選択される1つまたは複数の配列から選択される、少なくとも1種の光障害のマーカーを使用するステップと、(b)該マーカー中の変化を検出して、光障害の存在を決定するステップを含む方法。
IPC (3):
C12Q 1/68 ZNA ,  C12N 15/00 ,  C12N 15/09
FI (3):
C12Q 1/68 ZNA A ,  C12N 15/00 A ,  C12N 15/00
F-Term (14):
4B024AA11 ,  4B024CA04 ,  4B024CA12 ,  4B024HA12 ,  4B063QA19 ,  4B063QA20 ,  4B063QQ08 ,  4B063QQ53 ,  4B063QR08 ,  4B063QR42 ,  4B063QR56 ,  4B063QS25 ,  4B063QS34 ,  4B063QX02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 米国特許第5,242,798号
  • EP799897
  • WO9743450
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Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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