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J-GLOBAL ID：200903091994796365

感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法

Inventor： 加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  橋本 通晰 ,  逆水 登志夫 ,  白石 洋
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994289638
Publication number (International publication number)：1996146609
Application date： Nov. 24, 1994
Publication date： Jun. 07, 1996
Summary：

【要約】【目的】 半導体装置の製造において、工業的に有利なアルカリ水溶液を現像液とする工程により、高感度、高解像度、かつ、安定性の良いポジ型パタンを現出させるレジスト材料を提供する。【構成】 (a)アルカリ可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を増加させる反応性を有する高分子化合物として、側鎖に酸分解性基を有するビニル重合体及び(d)溶剤を含む感光性樹脂組成物であって、組成物中の水分含有量を0.05〜0.15重量%とした感光性樹脂組成物およびこの組成物を用いたレジスト像の製造法。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を増加させる反応性を有する高分子化合物として、側鎖に酸分解性基を有するビニル重合体及び(d)溶剤を含むポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物であって、組成物中の水分含有量を0.05〜0.15重量%とした感光性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 A