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J-GLOBAL ID:200903092078154028

半導体ウエハ加工用粘着シート

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 酒井 一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992202710
Publication number (International publication number):1994049420
Application date: Jul. 29, 1992
Publication date: Feb. 22, 1994
Summary:
【要約】【構成】 紫外線及び/又は放射線に対し透過性を有する基材と、紫外線及び/又は放射線により重合硬化反応する粘着剤層とを備えるシートにおいて、該粘着剤層がベースポリマーと、分子量15000〜50000の多官能ウレタンアクリレート系オリゴマーと、可塑剤と、光重合開始剤とを含有することを特徴とする半導体ウエハ加工用粘着シート。【効果】 本発明の半導体ウエハ加工用粘着シートは、半導体ウエハに対して、紫外線及び/又は放射線の照射前には十分な粘着力と凝集力を有し、照射後にはピックアップ等を行う際の最適値まで接着力を低下させることができ、更には、熱あるいは蛍光灯下に長時間曝されても紫外線及び/又は放射線の照射前後における半導体ウエハに対する粘着力変化のない安定した半導体ウエハ加工用粘着シートを得ることができる。
Claim (excerpt):
紫外線及び/又は放射線に対し透過性を有する基材と、紫外線及び/又は放射線により重合硬化反応する粘着剤層とを備えるシートにおいて、該粘着剤層がベースポリマーと、分子量15000〜50000の多官能ウレタンアクリレート系オリゴマーと、可塑剤と、光重合開始剤とを含有することを特徴とする半導体ウエハ加工用粘着シート。
IPC (3):
C09J 7/02 JJU ,  C09J 7/02 JLE ,  H01L 21/78
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開平2-269171
  • 特開平3-066772
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-269171
  • 特開平3-066772

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