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J-GLOBAL ID：200903092088870058

超分子埋植材料

Inventor： 由井 伸彦 ,  大谷 亨
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998127978
Publication number (International publication number)：1999319069
Application date： May. 11, 1998
Publication date： Nov. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 組織再建時の保持固定に必要な力学特性と、組織再建後の迅速な分解消失特性とを発揮する、新しい超分子埋植材料を提供する。【解決手段】 環状分子の空洞を貫通した水溶性の直鎖状高分子の両末端には埋植部位で分解する生体内分解性基が導入されており、この末端基が分解しない限り環状分子が脱離しない分子構造を持つものとする。

Claim (excerpt)：

環状分子の空洞を貫通した水溶性の直鎖状高分子の両末端には埋植部位で分解する生体内分解性基が導入されており、この末端基が分解しない限り環状分子が脱離しない分子構造を有していることを特徴とする超分子埋植材料。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 経皮吸収促進物質及びその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-076491   Applicant：由井伸彦
• 刺激応答型超分子集合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-114564   Applicant：科学技術振興事業団

Cited by examiner (2)

• 経皮吸収促進物質及びその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-076491   Applicant：由井伸彦
• 刺激応答型超分子集合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-114564   Applicant：科学技術振興事業団