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J-GLOBAL ID：200903092093171877

水素シルセスキオキサン樹脂の製造方法

Inventor： レスリー・アール・カーペンター・セカンド ,  道野 哲行
Applicant, Patent owner： ダウ コーニング アジア株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998328143
Publication number (International publication number)：2000143810
Application date： Nov. 18, 1998
Publication date： May. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】 アリールスルホン酸等を用いても、再利用できないアリールスルホン酸等を生じさせない水素シルセスキオキサン樹脂の製造方法を提供する。【解決手段】 硫酸と、硫酸によりスルホン化されず水と後記有機相の両方に溶解可能な有機スルホン酸とを含む水相と、この有機スルホン酸を溶解可能で硫酸と反応しないハロゲン化炭化水素溶媒からなる有機相との2相系に、HSiCl3 の上記ハロゲン化炭化水素溶媒の溶液を添加し、攪拌する、水素シルセスキオキサン樹脂の製造方法。但し、上記水(上記界面活性剤が水和水を有するときはこれを包含する)と硫酸の合計量に占める当該硫酸の割合が80〜96wt%であり、且つ上記界面活性剤が上記有機相中で0.008モル/L以上存在する。

Claim (excerpt)：

下記水相(I)及び有機相(II)とからなる2相系中において、トリクロロシラン(HSiCl3 )の加水分解縮合を行うことを特徴とする水素シルセスキオキサン樹脂の製造方法:(I)水相:芳香族スルホン酸又は脂肪族スルホン酸から選ばれる有機スルホン酸と硫酸が溶解された水溶液であり、前記硫酸は水相中に存在する硫酸と水(前記有機スルホン酸が水和物であるときは、それに含まれる水和水も含まれる)の合計重量のうち80重量%以上、96重量%以下の範囲にあるもの;及び(II)有機相:前記トリクロロシランを溶解可能であり、硫酸に対して実質的に反応性を有しないハロゲン化炭化水素溶媒に前記有機スルホン酸が0.008モル/リットル以上溶解してなる溶液;ここに、前記2相を形成するために添加される硫酸、有機スルホン酸及び必要に応じて添加される水の合計重量に占める前記有機スルホン酸(水和物であるときはそれに含まれる水和水の重量を除く)の重量割合は5重量%以上である。

F-Term (8)：

4J035BA12 ,  4J035CA02N ,  4J035CA021 ,  4J035EA01 ,  4J035EB01 ,  4J035EB02 ,  4J035LA03 ,  4J035LB12