Pat

J-GLOBAL ID：200903092132415487

自動分析システム

Inventor： 吉原 正任 ,  小林 勝英 ,  城戸 安典 ,  平野 隆英 ,  高橋 育雄 ,  中谷 武彦 ,  及川 誠一
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社 ,  株式会社島津製作所
Agent (1)： 小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992073283
Publication number (International publication number)：1993232023
Application date： Feb. 24, 1992
Publication date： Sep. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 発光分光分析装置及び蛍光X線分析装置の両装置を用いた高精度な分析を連続かつ自動的に行なう。【構成】 分析対象の試料を発光分光分析装置60又は蛍光X線分析装置70へ移送したりこれらの両装置間で移送したりするための搬送装置32及びハンドリング装置33、34を備え、制御CPU50が、分析設定盤20で指定された分析方法に応じて、これらの両分析装置60、70、搬送装置32、及びハンドリング装置33、34の動作を制御する。

Claim (excerpt)：

第1の試料設定位置に置かれた試料を分析する発光分光分析装置と、第2の試料設定位置に置かれた試料を分析する蛍光X線分析装置と、発光分光分析装置単独、蛍光X線分析装置単独、発光分光分析装置及び蛍光X線分析装置の双方、のうちいずれで分析するかを指定する設定手段と、分析可能な状態に調製された試料を所定場所から第1の試料設定位置へ移送すること、前記試料を前記所定場所から第2の試料設定位置へ移送すること、及び、前記試料を第1の試料設定位置と第2の試料設定位置との間で移送することが可能な移送手段と、前記設定手段による指定に基づいて、前記移送手段による前記試料の移送、並びに、発光分光分析装置又は/及び蛍光X線分析装置による前記試料の分析を制御する制御手段と、を備え、前記両分析装置を用いて前記試料を連続かつ自動的に分析できることを特徴とする自動分析システム。

IPC (2)：

G01N 21/62 ,  G01N 23/223

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-107766
  
• 特開昭63-271164
  
• 特開平3-099269
  
• 特開昭57-142549