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J-GLOBAL ID：200903092136720985

膜質改質装置

Inventor： 鈴木 信二 ,  嶋 利之 ,  山口 明康
Applicant, Patent owner： ウシオ電機株式会社
Agent (1)： 長澤 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996171087
Publication number (International publication number)：1997080442
Application date： Jul. 01, 1996
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 短時間で処理を行うことができ、また、不所望な部分の改質が行われることがない膜質改質装置を提供すること。【解決手段】 ワークステージ15にワークを載せ、マスクMの全面と接触するまでワークWを上昇させたのちワークWを下降させる。間隙設定機構13は上記操作によりマスクMとワークWを平行にかつその間隙を一定に保持させる。ついで、紫外光放射部7が照射する200〜300nmの平行な紫外光をマスクMを通してワークWに照射する。上記紫外光の視角をα、マスクMとワークWの間に形成された酸素を含む気体層の厚さをd、ワークW上の改質する領域の最小幅をWとしたとき、上記紫外光照射部7はα>1.5°かつd×tan α≦0.1W(d≠0)の条件を満たす光をワークW上に照射する。これにより光の回り込みを防止することができる。

Claim (excerpt)：

マスクとワークに対して略垂直に平行紫外光を照射する紫外光照射部と、上記マスクを保持するマスクステージ部と、上記ワークを保持するワークステージおよびこのワークステージを回転および水平垂直方向に移動させる移動機構とからなるワークステージ部と、ワークとマスクとを近接させて保持し、ワークとマスクとの間に酸素を含む気体層を形成させる間隙設定機構と、上記各機構を制御する制御部とを備えた膜質改質装置であって、上記紫外光照射部は、少なくとも紫外光を放射するランプと、楕円集光鏡と、インテグレータレンズと、コリメータレンズもしくはコリメータミラーから構成され、上記紫外光照射部は、紫外光の視角をα、上記気体層の厚さをd、上記ワーク上の改質する領域の最小単位の幅をWとしたとき、α>1.5°かつd×tanα≦0.1W(d≠0)の条件を満足する紫外光をマスクを通してワークに照射することを特徴とする膜質改質装置。

IPC (2)：

G02F 1/1337 520 ,  G02F 1/13 101

FI (2)：

G02F 1/1337 520 ,  G02F 1/13 101