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J-GLOBAL ID：200903092179340400

基板乾燥方法および基板乾燥装置

Inventor： 藤川 和憲 ,  松田 承真 ,  長谷川 公二
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 間宮 武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998295238
Publication number (International publication number)：2000124187
Application date： Oct. 16, 1998
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 処理槽内の純水中に基板を浸漬させて水洗した後、基板を純水中から露出させて処理槽内で基板を乾燥させる場合に、基板の表面に付着した純水を完全に水溶性の有機溶剤に置換させて基板を乾燥させ、基板にウォーターマークが発生することを防止できる方法を提供する。【手段】 処理槽内10に収容された純水68中に浸漬させられて水洗された基板Wを純水中から露出させて乾燥させる場合に、基板を純水中から露出させる途中または露出させた後に、基板に対して水溶性の有機溶剤86のミストを窒素ガスと共に供給する。

Claim (excerpt)：

処理槽内に収容された純水中に浸漬させられて水洗された基板を純水中から露出させて乾燥させる基板乾燥方法において、基板を純水中から露出させる途中および/または露出させた後に、基板に対して水溶性の有機溶剤のミストを供給することを特徴とする基板乾燥方法。

IPC (2)：

H01L 21/304 651 ,  F26B 21/14

FI (2)：

H01L 21/304 651 H ,  F26B 21/14

F-Term (7)：

3L113AA01 ,  3L113AB02 ,  3L113AC08 ,  3L113AC30 ,  3L113AC48 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34