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J-GLOBAL ID：200903092189222901

施肥管理方法および装置

Inventor： 篠原 温 ,  丸尾 達
Applicant, Patent owner： 株式会社イー・エス・ディ
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004070207
Publication number (International publication number)：2005253377
Application date： Mar. 12, 2004
Publication date： Sep. 22, 2005
Summary：

【課題】植物への余分な施肥をなくし、過剰施肥によるコストアップや肥料流出による環境負荷の増大などを抑える。【解決手段】植物が現在その生長過程におけるどの生長ステージにあるかを判断し、各生長ステージにおいて、植物への日射量の積算値がその生長ステージに対して定められた所定値(閾値S1,S2,S3,S4)に達する毎に、その生長ステージに対して定められた施肥量(係数α1,α2,α3,α4)の施肥を行う。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

植物への日射量を積算する工程と、 前記植物への日射量の積算値が所定値に達する毎に前記植物への施肥を行う工程と を備えることを特徴とする施肥管理方法。

IPC (1)：

A01C21/00

FI (1)：

A01C21/00 Z

F-Term (1)：

2B052BA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 日射感応型自動養液供給制御方法と装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-241992   Applicant：近乗偉夫
• 特開昭61-067420
  
• 栽培システムの給液制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-057493   Applicant：井関農機株式会社