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J-GLOBAL ID:200903092197787063
粉粒体の処理装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993193898
Publication number (International publication number):1995024339
Application date: Jul. 12, 1993
Publication date: Jan. 27, 1995
Summary:
【要約】【目的】 球状化処理若しくは複合化処理装置の衝撃室内における処理粉体の分散性を改善することにより、球状化処理若しくは複合化処理時間の短縮及び処理効率の向上を図る。【構成】 前部カバー9及び後部カバー10により構成される衝撃室1の内壁に凹凸が形成されているか、又は平滑な面を有する衝突リング2を配設するとともに、回転軸11に複数の衝撃羽根3が周設された回転盤4を装着する。前部カバー9の内壁面及び回転盤4の前部カバー9に対向する面上には、それぞれ分散ピン13,12が立設される。粉体導入管5から導入された処理粉体は、分散ピン12,13により衝撃室1全体に均一に分散され、効率良く衝撃羽根3及び衝突リング2と衝突して微細化並びに球状化若しくは複合化の処理が行われる。循環回路管6は、衝突リング2に対して接線方向に設けられ、処理粉体は円滑に循環される。
Claim (excerpt):
衝撃室内に、衝撃羽根を周設した回転盤を配置すると共に、衝撃羽根の最外周軌道面に沿い、かつそれに対して一定の空間を置いて衝突リングを配置し、前記衝撃羽根の回転によって発生した気流を、前記衝突リングの一部から前記回転盤の中心付近の前カバーに開口する循環回路管を介して前記衝撃室に誘導・循環させ、処理粉体を繰り返し前記衝撃室と前記循環回路管とを通過させ、前記衝突リング及び衝撃羽根により衝撃・圧縮力を与えて球状化若しくは複合化する装置において、衝撃羽根を周設した回転盤及び衝撃室の前部カバーの中心付近に粉体の分散用のピンを取付けたことを特徴とする粉粒体の処理装置
IPC (2):
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