Pat
J-GLOBAL ID：200903092211479504
処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991330041
Publication number (International publication number)：1993144692
Application date： Nov. 19, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 モータの脱調を生ずることなく迅速に被処理体を搬送してスループットを向上させる。【構成】 被処理体Wを処理する複数の処理ユニット8A〜8Eと、このユニットに被処理体Wを搬入、搬出する搬送機構10を有する処理装置2において、搬送機構に設けた搬送ユニット14の各駆動源の加速期間及び減速期間に多段階に加速度を変化させる制御部を設け、脱調を生ずることのないように到達最高速度を大きくしてスループットを向上させる。
Claim (excerpt)：
被処理体を処理する複数の処理ユニットと、これらの各処理ユニットに前記被処理体を搬入、搬出する搬送機構とを有する処理装置において、前記搬送機構は、加速期間或いは減速期間において加速度を変化させる制御部を有するように構成したことを特徴とする処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, H01L 21/68
, G05B 19/407
