Pat
J-GLOBAL ID:200903092245748083
磁気抵抗効果素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
穂上 照忠 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993221663
Publication number (International publication number):1995078316
Application date: Sep. 07, 1993
Publication date: Mar. 20, 1995
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】高出力を得ることができ、磁気ヘッド等に用いることができる磁気抵抗効果素子の提供。【構成】?@ソフトバイアス膜5 上の磁気分離膜4 の上に、NiFeの層1 とCuの層2 とが交互に積層された磁気抵抗効果素子であって、NiFeの層1 とCuの層2 は、それぞれ 1.0〜2.0nm および1.5 〜2.5nm の厚さで、層面と平行な一方向磁場中において5〜25回積層され、素子の幅(W)が1〜5μm である磁気抵抗効果素子。?A層面と平行な一方向磁場中においてNiFeの層1 とCuの層2 とが交互に積層された磁気抵抗効果素子であって、NiFeの層1 とCuの層2 はそれぞれ 1.0〜2.0nm および1.5〜2.5nm の厚さで5〜25回積層され、素子の幅は2〜5μm であり、素子の長さと素子の幅の比(素子の長さ/素子の幅)が5〜100 である磁気抵抗効果素子。
Claim (excerpt):
ソフトバイアス膜上の磁気分離膜の上に、NiFeの層とCuの層とが交互に積層された磁気抵抗効果素子であって、NiFeの層とCuの層は、それぞれ 1.0〜2.0nm および1.5 〜2.5nm の厚さで、層面と平行な一方向磁場中において5〜25回積層され、素子の幅が1〜5μm であることを特徴とする磁気抵抗効果素子。ただし、素子の幅とは上記のNiFeおよびCuの層を積層する際に印加した一方向磁場の方向と垂直な方向の長さである。
IPC (3):
G11B 5/39
, H01F 10/14
, H01L 43/08
Return to Previous Page