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J-GLOBAL ID：200903092252796654

レーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタ

Inventor： 丸尾 成司 ,  有本 昭 ,  前田 佳均
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立工機株式会社
Agent (1)： 平木 道人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993175887
Publication number (International publication number)：1995084200
Application date： Jun. 24, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 入射光の入射角変動に対する消光比の変動を低く抑えるようにしたレーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタを提供する。【構成】 多層膜を1対のプリズムの接合面に有し、感光体の2か所に静電潜像を同時に形成するためにブリュースターアングルでの入射位置を中心にプリズムの長軸方向に走査されて接合面の各位置に走査角に応じた入射角で入射されるエネルギビ-ムを偏光成分に応じて2方向に分岐するレーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタにおいて、多層膜を構成する各薄膜の光学的膜厚を、ブリュースターアングルで入射されたエネルギビ-ムの光路長が略λ0 /4となる光学的膜厚よりも薄くなるようにした

Claim (excerpt)：

多層膜を1対のプリズムの接合面に有し、感光体の2か所に静電潜像を同時に形成するためにブリュースターアングルでの入射位置を中心にプリズムの長軸方向に走査されて接合面の各位置に走査角に応じた入射角で入射されるエネルギビ-ムを偏光成分に応じて2方向に分岐するレーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタにおいて、前記多層膜を構成する各薄膜の光学的膜厚(d)は、ブリュースターアングルで入射されたエネルギビ-ムの光路長が略λ0 /4となる光学的膜厚(d0 )よりも薄いことを特徴とするレーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタ。

IPC (3)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  G02B 5/30