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J-GLOBAL ID：200903092268847399

投影露光装置

Inventor： 舛行 崇
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993310508
Publication number (International publication number)：1995161622
Application date： Dec. 10, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】 瞳フィルタを必要としないパターンを露光する場合に、誤って投影光学系の瞳面付近に瞳フィルタを設置して露光を行うことがないようにする。【構成】 フライアイレンズ11の光源像からの露光光ILがコンデンサーレンズ18等を介してレチクルR上を照明し、レチクルRのパターン像が投影光学系1Aを介してウエハW上に投影露光される。レチクルRがコンタクトホールパターン用のレチクルの場合、投影光学系1Aの瞳位置に瞳フィルタ43Aを設置する。瞳フィルタ43Aの遮光膜44A上に受光素子27Aを設置し、受光素子27Aからの出力信号より、瞳フィルタ43Aがその瞳位置に設定されているかどうか、及びレチクルRのパターンの種類を判別する。

Claim (excerpt)：

マスク上に形成された転写用のパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に投影する投影露光装置において、前記投影光学系の瞳面又は該瞳面の近傍の面内であって前記マスクからの光束が通過する領域に所定の透過率分布又は位相分布を有する瞳フィルタを設置すると共に、前記マスクからの光束が通過する領域から該瞳フィルタを退避させる瞳フィルタ着脱手段と;前記マスク上のパターンの種類に応じて予め定められた前記瞳フィルタの着脱情報を入力する着脱情報入力手段と;該着脱情報入力手段により入力された前記瞳フィルタの着脱情報に基づいて前記瞳フィルタ着脱手段の動作を制御する制御手段と;前記瞳フィルタの着脱状態を検出する着脱状態検出手段と;該着脱状態検出手段により検出された前記瞳フィルタの着脱状態が前記着脱情報入力手段により入力された前記瞳フィルタの着脱情報に対応するかどうかを確認する確認手段と;を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527