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J-GLOBAL ID：200903092287997016

酸化チタンの製造方法

Inventor：
瀧 大輔

About 瀧 大輔

, 
堀川 松秀

About 堀川 松秀


Applicant, Patent owner：
東邦チタニウム株式会社

About 東邦チタニウム株式会社


Agent (3)： 赤塚 賢次 ,  福田 保夫 ,  阪田 泰之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007326208
Publication number (International publication number)：2008179528
Application date： Dec. 18, 2007
Publication date： Aug. 07, 2008
Summary：
【解決課題】優れた可視光吸収特性及び可視光での光触媒活性を有する酸化チタンの製造方法を提供すること。【解決手段】比表面積が200m2/g以上400m2/g以下であり、X線回折分析によるアナターゼの(101)ピークの半値幅が2θ=0.60°以上1.5°以下であり、且つ結晶構造がアナターゼ主体である原料酸化チタンと、硫黄化合物または窒素化合物のうち少なくともいずれか、またはこれらの両方と、を混合して、焼成原料混合物を得、次いで、該焼成原料混合物を焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
比表面積が200m2/g以上400m2/g以下であり、X線回折分析によるアナターゼの(101)ピークの半値幅が2θ=0.60°以上1.5°以下であり、且つ結晶構造がアナターゼ主体である原料酸化チタンと、硫黄化合物または窒素化合物のうち少なくともいずれか、またはこれらの両方と、を混合して、焼成原料混合物を得、次いで、該焼成原料混合物を焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。
IPC (4)：
C01G 23/00 ,  B01J 35/02 ,  B01J 27/02 ,  B01J 23/745
FI (4)：
C01G23/00 D ,  B01J35/02 J ,  B01J27/02 M ,  B01J23/74 301M
F-Term (30)：
4G047CA03 ,  4G047CB04 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4G047CD07 ,  4G169AA06 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC65A ,  4G169BC66B ,  4G169BC69A ,  4G169BD08A ,  4G169BD08B ,  4G169CA00 ,  4G169DA05 ,  4G169EC03X ,  4G169EC03Y ,  4G169EC22X ,  4G169EC22Y ,  4G169FB07 ,  4G169FC02 ,  4G169FC04 ,  4G169HA02 ,  4G169HB02 ,  4G169HD12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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