Pat
J-GLOBAL ID：200903092320400470

濾過膜モジュールの洗浄方法

Inventor：
浦野 紘平

About 浦野 紘平

, 
阿瀬 智暢

About 阿瀬 智暢


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 三浦 良和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993051482
Publication number (International publication number)：1994238136
Application date： Feb. 17, 1993
Publication date： Aug. 30, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 水の膜浄化処理システムにおいて、ランニングコストの低減化を図ると共に、全量濾過に近い回収率が得られ、しかも原水中の微生物の殺菌処理を効果的に行う濾過膜モジュールの洗浄方法を提供する。【構成】 水を限外または精密瀘過膜モジュール12を用いてクロスフロー瀘過により浄化しながら濾過膜モジュールを洗浄する方法において、通常運転においては原水流入量に対し循環量がゼロを越え6倍以下で、かつ膜面線速が0.005〜0.5m/secでクロスフローを行いながら全量瀘過し、前記瀘過膜モジュールの逆洗に際しては、前記濾過膜モジュールからの透過水または別途供給される清浄水により、圧力制御またはあらかじめ定められた周期で所定圧で間欠的に行い、かつ該逆洗時に前記瀘過膜モジュールに供給する前記透過水または清浄水には殺菌剤を含有させることを特徴とする濾過膜モジュールの洗浄方法。
Claim (excerpt)：
水を限外または精密瀘過膜モジュールを用いてクロスフロー瀘過により浄化しながら濾過膜モジュールを洗浄する方法において、通常運転においては原水流入量に対し循環量がゼロを越え6倍以下で、かつ膜面線速が0.005〜0.5m/secでクロスフローを行いながら全量瀘過し、前記瀘過膜モジュールの逆洗に際しては、前記濾過膜モジュールからの透過水または別途供給される清浄水により、圧力制御またはあらかじめ定められた周期で所定圧で間欠的に行い、かつ該逆洗時に前記瀘過膜モジュールに供給する前記透過水または清浄水には殺菌剤を含有させることを特徴とする濾過膜モジュールの洗浄方法。
IPC (6)：
B01D 65/06 ,  B01D 61/22 ,  B01D 63/02 ,  B01D 65/02 500 ,  B01D 71/16 ,  C02F 1/44
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開昭55-121812
  • 特開平4-260422
  • 特開昭52-049645
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM