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J-GLOBAL ID：200903092330127624

洗浄処理装置

Inventor： 西 光雄 ,  宮崎 高典 ,  向井 栄一 ,  上川 裕二 ,  田中 裕司
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993032514
Publication number (International publication number)：1994204197
Application date： Jan. 29, 1993
Publication date： Jul. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 被処理体保持部における被処理体との接触部におけるパーティクルの発生防止及び被処理体の浸漬処理の向上を図る。【構成】 ウエハWを保持してウエハWを処理槽内の処理液に浸漬するウエハボート16を、耐食、耐熱及び耐強度性を有する石英製基部材18と、この石英製基部材18の表面に装着される耐食及び耐熱性を有するPEEK製の保持溝部材19とで形成する。これにより、ウエハボート16におけるウエハWとの接触部におけるパーティクルの発生を防止することができると共に、ウエハWの浸漬処理の向上を図ることができる。

Claim (excerpt)：

被処理体を浸漬処理する処理液を収容する処理槽と、上記被処理体を保持して処理槽へ搬送する搬送手段と、上記被処理体を保持して被処理体を上記処理槽内の処理液に浸漬する保持手段とを具備する洗浄処理装置において、上記搬送手段又は保持手段の被処理体保持部のうちの少なくとも保持手段の被処理体保持部を、耐食、耐熱及び耐強度性を有する基部材と、この基部材の表面に装着される耐食及び耐熱性を有する合成樹脂製の保持溝部材とで形成してなることを特徴とする洗浄処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 11/02 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-130724
  
• 特開平3-156951