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J-GLOBAL ID：200903092346166913
赤外光レーザーによる有機薄膜の製造方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994331094
Publication number (International publication number)：1996158055
Application date： Dec. 07, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：
【要約】【目的】 Nd:YAGレーザー等の赤外光レーザーを用いて、固体の原料有機化合物から有機薄膜を製造する方法及び装置を提供する。【構成】 反応チャンバー14内に固体の原料有機化合物16を配置し、この反応チャンバー14内を排気して減圧状態にした後、この原料有機化合物16に赤外光レーザーを照射し有機分子を励起・活性化させて、有機分子を飛び出させ、原料有機化合物の対面に配置した基板20上に、励起された有機分子を析出させて有機薄膜を製造する。
Claim (excerpt)：
反応チャンバー内に固体の原料有機化合物を配置し、この反応チャンバー内を排気して減圧状態にした後、この原料有機化合物に赤外光レーザーを照射し有機分子を励起・活性化させて、有機分子を飛び出させ、原料有機化合物の対面に配置した基板上に、励起された有機分子を析出させることを特徴とする赤外光レーザーによる有機薄膜の製造方法。
IPC (3)：
C23C 16/48
, C08F 2/00 MAD
, C08J 5/18
