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J-GLOBAL ID：200903092350067156

露光方法及び装置

Inventor： 近藤 誠
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2000001540
Publication number (International publication number)：WO2000059012
Application date： Mar. 14, 2000
Publication date： Oct. 05, 2000
Summary：

【要約】複数枚のパターンを2次元的に画面継ぎを行いながら転写する場合、4枚のパターンが隣接する部分での積算露光量を他の部分での積算露光量とほぼ同じにできる露光方法である。ウエハ上にレチクルのパターンの投影像(30A〜30D)をX方向、Y方向に一部の領域が重なるように継ぎ合わせて露光する。4個の投影像(30A〜30D)が隣接する領域(継ぎ部(31))では、各投影像(30A〜30D)の矩形の角部の露光量分布を、それぞれX方向に次第に減少する第1の特性とY方向に次第に減少する第2の特性とを掛け合わせた特性に基づいて設定する。

Claim (excerpt)：

基板上に複数のパターンを継ぎ合わせて露光することによって、前記各パターンよりも大きいパターンを前記基板上に露光する露光方法において、 複数のパターンを互いに交差する第1方向及び第2方向にそれぞれ一部の領域が重なり合うように継ぎ合わせて露光し、 4個のパターンが隣接する領域では該4個のパターンの角部を互いに重ね合わせて露光すると共に、 前記4個のパターンをそれぞれ露光する際に、該パターンの前記角部の露光量を前記第1方向に沿って外側に次第に減少する第1特性と、前記第2方向に沿って外側に次第に減少する第2特性とを掛け合わせた特性に基づいて設定することを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/22

FI (5)：

H01L 21/30 514 C ,  G03F 1/08 B ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 D