転写用回折素子、その製造方法、及びそれを用いた回折素子パネルの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：梅田勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996299916
Publication number (International publication number)：1998143056
Application date： Nov. 12, 1996
Publication date： May. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は、三次元画像表示装置等に用いられ、精度が高く、広範囲に一度に作製でき、また基板の損傷を防止することができる転写用回折素子、その製造方法、及びそれを用いた回折素子パネルの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】感光材料131に接触しないように配置され、感光材料131の所望の領域にのみに回折パターンを転写するのに用いられる転写用回折素子101であって、所望の領域にのみに二種類以上の光212,213を入射させて回折パターンを発せさせるような干渉パターンが形成されている転写用回折素子101を構成する。

Claim (excerpt)：

感光材料に接触しないように配置され、該感光材料の所望の領域にのみに回折パターンを転写するのに用いられる転写用回折素子であって、前記所望の領域にのみに二種類以上の光を入射させて前記回折パターンを発生させるような干渉パターンが形成されていることを特徴とする転写用回折素子。

IPC (3)：

G03H 1/20 , G02B 5/18 , G03H 1/26

FI (3)：

G03H 1/20 , G02B 5/18 , G03H 1/26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

ホログラム作成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-049804 Applicant：株式会社リコー

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