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J-GLOBAL ID：200903092396720032

ウェハ乾燥方法及び乾燥槽及び洗浄槽及び洗浄装置

Inventor： 岩井 計夫
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998231004
Publication number (International publication number)：2000058498
Application date： Aug. 17, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】ウェハ乾燥槽またはウェハ洗浄装置において、ウェハの表裏両面を短時間でかつ乾燥不良のない良好で乾燥させる。【解決手段】乾燥すべきウェハに対し、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤を吐出し、ウェハを乾燥させる。アルコール系溶剤の吐出タイミングは遅くともリンスの純水吐出が停止するのと同時であることが好ましい。

Claim (excerpt)：

枚様式にウェハを乾燥する方法において、乾燥すべきウェハの表裏面どちらか一方または両方に対しアルコール系溶剤を吐出し、ウェハを乾燥させることを特徴とするウェハ乾燥方法。

IPC (5)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08

FI (5)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/02 Z ,  B08B 3/08 Z

F-Term (11)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201CB15 ,  3B201CB21 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CC13 ,  3B201CD41