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J-GLOBAL ID：200903092438749540

ポジ型放射感応性混合物

Inventor： クラウス、ユルゲン、シベラ ,  工 藤 隆 範 ,  増 田 誠 也 ,  木 下 義 章 ,  末 廣 なつみ ,  ムニラチュナ、パドマナバン ,  岡 崎 博 ,  遠 藤 元 ,  ラルフ、ダメル
Applicant, Patent owner： ヘキストジャパン株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993025753
Publication number (International publication number)：1994242606
Application date： Feb. 15, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 アルカリ水溶液で現像でき、安定した酸潜像を有する、半導体構造製造用の、新規な、短波長UV領域において高い放射感応性を有する混合物を提供すること。【構成】 必須成分としてa)水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な結合剤、b)酸により開裂し得る結合を少なくとも一つ有する化合物、c)放射により酸を発生する化合物、及びd)塩基性スルホニウム化合物を含むことを特徴とするポジ型放射感応性混合物。

Claim (excerpt)：

必須成分として、a)水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な結合剤、b)酸により開裂し得る結合を少なくとも一つ有する化合物、c)放射により酸を発生する化合物、及びd)塩基性スルホニウム化合物を含むことを特徴とする、ポジ型放射感応性混合物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 酸不安定基を含有する感放射線混合物およびレリーフパターン、レリーフ画像の作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-061566   Applicant：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特開平1-294322
  
• 特開平3-103854
  
• 特開平3-153257