基板載置台およびその製造方法ならびに処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高山宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001393918
Publication number (International publication number)：2002313898
Application date： Dec. 26, 2001
Publication date： Oct. 25, 2002
Summary：

【要約】【課題】基板載置台の表面に付着物が蓄積することによって生じるエッチングむら等の処理むらを防止し、基板が基板載置台に吸着されてしまうこと等を防止する。【解決手段】プラズマ処理装置1は、基板Gを収容するチャンバー2と、前記チャンバー2内に設けられ、基板Gが載置されるサセプタ4と、前記チャンバー2内に処理ガスを供給するシャワーヘッド11と、前記チャンバー2内に前記処理ガスのプラズマを生成するプラズマ生成手段25とを具備する。サセプタ4は、基材4a上に、誘電性材料膜6を形成し、その上に複数の開口を有する開口板66を介して溶射によりセラミックスからなる複数の凸部7を形成する。

Claim (excerpt)：

基材表面に誘電性材料膜を形成する工程と、前記誘電性材料膜の上に、複数の開口を有する開口板を載置し、前記開口板を介してセラミックスを溶射してセラミックスからなる複数の凸部を形成する工程とを含むことを特徴とする基板載置台の製造方法。

F-Term (11)：

5F031CA05 , 5F031HA02 , 5F031HA03 , 5F031HA08 , 5F031HA10 , 5F031HA16 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA32 , 5F031PA26 , 5F031PA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

ワークピースの支持チャックの支持面に離間してワークピースを支持する装置及び離間マスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-051255 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
ワークピースを保持する双極静電チャック及び装置と方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-117686 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
圧電振動子及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-285652 Applicant：松下電器産業株式会社

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