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J-GLOBAL ID：200903092444322079

ベーク装置

Inventor： 金井 昭司 ,  田宮 洋一郎 ,  黒岩 慶造 ,  広田 信吉 ,  平松 賢二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992179566
Publication number (International publication number)：1994029203
Application date： Jul. 07, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジストの過ベークに起因するレジスト膜厚のばらつきや露光感度のばらつきを防止する。【構成】 ベークユニット1内の上部に設置されたヒータ2と、ベークユニット1内の下部に設置された冷却プレート3と、半導体ウエハ10を水平に支持した状態で上下動させる昇降ピン4と、上記ヒータ2と冷却プレート3との間に設置され、ベークユニット1内の密閉空間を上下に二分割する断熱シャッタ5とを備えたベーク装置である。ベーク処理が終了した半導体ウエハ10は、断熱シャッタ5によりヒータ2の熱とは遮断された雰囲気中で待機するので、待機時間の長短にかかわらず、フォトレジストの過ベークが防止される。

Claim (excerpt)：

半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジストをベーク処理するベークユニットを備えたベーク装置であって、ベークユニット内の上部に設置され、半導体ウエハをその上方から非接触で加熱するヒータと、前記ベークユニット内の下部に設置され、前記半導体ウエハを冷却する冷却プレートと、前記ベークユニット内の半導体ウエハを水平に支持した状態で上下動させる昇降ピンと、前記ヒータと冷却プレートとの間に設置され、前記ベークユニット内の密閉空間を上下に二分割する断熱シャッタとを有することを特徴とするベーク装置。