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J-GLOBAL ID：200903092496161111

磁気抵抗効果ヘッド及びその製造方法

Inventor： 川邉 隆 ,  岡井 哲也 ,  岡田 智弘 ,  府山 盛明 ,  由比藤 勇 ,  秋元 一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993055368
Publication number (International publication number)：1994267031
Application date： Mar. 16, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】高いパターン精度と優れた絶縁耐圧とを兼ね備えた電極を有するMRヘッドと、その製造方法を提供する。【構成】MRヘッドの電極端部を、MR膜に隣接する急峻なテーパ部分と、MR膜から離れたゆるやかなテーパ部分の2段テーパ形状とする。また、電極膜を2層構造とし、反応性エッチングにおける横方向エッチング速度の差を利用して、2段テーパ形状を作製する。【効果】高精度なエッチング電極パターンが作製できる。また、磁気ギャップ膜のつきまわりが改善され、電極/磁気シールド間の絶縁耐圧を大きくできる。

Claim (excerpt)：

磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効果膜に電流を供給する電極膜とを含み、磁気媒体上に記録された情報を再生する磁気抵抗効果ヘッドにおいて、前記電極膜の端部がテーパ形状となっており、前記磁気抵抗効果膜側に隣接する側の前記電極膜の端部テーパ角度が、前記磁気抵抗効果膜から離れた側の前記電極膜の端部テーパ角度よりも急峻であることを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。