Pat

J-GLOBAL ID：200903092524095855

過酸化水素発生装置

Inventor： 岩井 卓司 ,  奥崎 友一 ,  岡田 弘一 ,  沢崎 哲夫
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998034397
Publication number (International publication number)：1999229168
Application date： Feb. 17, 1998
Publication date： Aug. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 発電所で使用される冷却水系等の防汚及び/又は処理水の滅菌のために、冷却水に注入する過酸化水素を、冷却水の注入を行う場所の近くのオンサイトにおいても、生成できるようにした過酸化水素発生装置を提供する。【解決手段】 対峙して配設された陰極板3と陽極板2との間がアニオン交換膜8とカチオン交換膜7で仕切られた電解槽1内に、前記陰極板3と前記アニオン交換膜8で区画され、アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室6と、前記アニオン交換膜8と前記カチオン交換膜7で区画され、海水又は食塩水が導入される中間室5と、前記カチオン交換膜7と前記陽極板2で区画され、硫酸溶液が導入される陽極室4とを設けると共に、前記陰極板3をガス拡散電極にて構成し、前記中間室5から海水又は食塩水とともに過酸化水素を生成する。

Claim (excerpt)：

対峙して配設された陰極板と陽極板との間がアニオン交換膜とカチオン交換膜で仕切られた電解槽内に、前記陰極板と前記アニオン交換膜で区画され、アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室と、前記アニオン交換膜と前記カチオン交換膜で区画され、海水又は食塩水が導入される中間室と、前記カチオン交換膜と前記陽極板で区画され、硫酸溶液が導入される陽極室とを設けると共に、前記陰極板をガス拡散電極にて構成し、前記中間室から海水又は食塩水とともに過酸化水素を生成することを特徴とする過酸化水素発生装置。

IPC (7)：

C25B 1/30 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C25B 9/00 315

FI (7)：

C25B 1/30 ,  C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 531 Q ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 F ,  C25B 9/00 315