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J-GLOBAL ID：200903092536566632

フォトレジスト組成物

Inventor： 榎 本 憲 秀
Applicant, Patent owner： 川崎製鉄株式会社
Agent (1)： 渡辺 望稔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992198489
Publication number (International publication number)：1994043646
Application date： Jul. 24, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】紫外線を用いたリソグラフィに使用する新規なフォトレジスト組成物の提供。特に、遠紫外線(DUV)によるサブミクロンのリソグラフィが可能であり、また現像後に行う170°C以上でのプラズマ・エッチング、スパッタリング、イオン注入等の高温処理時にも像のゆがみがないフォトレジスト組成物の提供。【構成】インデンとマレイミドとからなる、あるいは重合成分:(A)インデン 70〜99重量%、(B)スチレン 0.5から29.5重量%、および(C)α-メチルスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、メチルインデン、クマロンおよびジシクロペンタジエンよりなる群より選ばれる少なくとも1つまたは2つ以上の合計0.5〜29.5重量%からなるインデンを主成分としたナフサ油の重合成分とマレイミドとからなるアルカリ可溶性ポリマーと、そのアルカリ可溶性ポリマーを、紫外線への露光により交差結合させるのに十分な量のビスアジド増感剤とからなるフォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

インデンとマレイミドとのアルカリ可溶性ポリマーと、該アルカリ可溶性ポリマーを紫外線に露光して交差結合させるのに十分な量のビスアジド増感剤とからなるフォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/008 ,  H01L 21/027