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J-GLOBAL ID：200903092541275964

プラズマ処理方法および装置

Inventor： 加治 哲徳 ,  渡辺 成一 ,  小川 芳文
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992191878
Publication number (International publication number)：1994037086
Application date： Jul. 20, 1992
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：

【要約】【構成】マイクロ波発生器1とマイクロ波導入手段2とにより気密容器4内にプラズマを生成し、試料を処理するプラズマ処理装置において、円形導波管のTE12もしくはそれに類似のモードが通過しうる管径のマイクロ波導入手段2の部分もしくは気密容器4内に、少なくとも2つのモードに対してマイクロ波の通過率が異なるモードフィルタを設ける。【効果】管径の大きい部分で通過するマイクロ波電磁界のモードが固定化され、モードのジャンプ現象等が生じにくくなり、より安定なプラズマ処理が可能となる。

Claim (excerpt)：

マイクロ波を用いたプラズマ処理方法において、複数モードのマイクロ波が存在し得る大径化した円形伝播空間で、少なくとも2つのモードに対してマイクロ波の通過率を変えることを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (7)：

H01L 21/31 ,  C23C 14/40 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/302 ,  H01P 1/16 ,  H05H 1/18