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J-GLOBAL ID：200903092552220266
ポジ型フオトレジスト組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
内田 亘彦 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991283406
Publication number (International publication number)：1993119474
Application date： Oct. 30, 1991
Publication date： May. 18, 1993
Summary：
【要約】【構成】 本発明のポジ型フオトレジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂及び1,2-ナフトキノンジアジド基を含む化合物から成るポジ型フオトレジスト組成物において、更に下記一般式〔1〕、〔2〕で示されるベンゾフェノン誘導体からなる群から選ばれた少なくとも1種の吸光剤を全固型分の0.1〜10重量%含むことを特徴とする。【化1】【効果】 本発明の組成物によれば、高反射率基板上においても線幅制御性に優れ、感度、解像力、耐昇華性等の諸特性に優れたフオトレジストが得られ、微細加工用フォトレジストとして好適に用いられる。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂及び1,2-ナフトキノンジアジド基を含む化合物から成るポジ型フオトレジスト組成物において、更に下記一般式〔1〕、〔2〕からなる群から選ばれた少なくとも1種の吸光剤を全固型分の0.1〜10重量%含むことを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】式中R1 、R2 はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルコキシ基、水素原子を表す。また、R1 とR2 またはR1 とR4 により環を形成してもよく、その環はさらにヘテロ原子を含有していてもよい。R3 、R6 はアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ニトロ基を表し、R7 R11はアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシ基、ニトロ基を表し、R3 、R6 、R7 、R11のうち少なくとも1つはカルボキシル基を表す。R4 、R5 、R8 、R9 、R10はアルキル基、アルコキシ基、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基を表す。【化2】式中、R12、R13はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルコキシ基、水素原子を表す。またR12とR13またはR12とR15により環を形成してもよく、その環はさらにヘテロ原子を含有していてもよい。R14、R15、R16はアルキル基、アルコキシ基、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基を表す。R17、R18、R19、R20、R21はアルキル基、アルコキシ基、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、【化3】
IPC (3)：
G03F 7/022
, G03F 7/004 506
, H01L 21/027
