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J-GLOBAL ID：200903092576241027

浮遊帯域溶融装置

Inventor： 進藤 勇
Applicant, Patent owner： 株式会社アスカル
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991347040
Publication number (International publication number)：1993178685
Application date： Dec. 27, 1991
Publication date： Jul. 20, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 内面を反射面とした回転楕円面反射鏡の一方の焦点に赤外線ランプを設け、他方の焦点上に反射面から反射した輻射線を集中して加熱する方式の輻射線集中加熱装置において、回転楕円面反射鏡が、その断面として回転楕円面反射鏡の形状を有し、かつ、全体はリング状となる特殊形状からなることを特徴とする光学式浮遊帯域溶融装置。【効果】 良質の単結晶の育成と、大口径単結晶の育成が可能となる。

Claim (excerpt)：

内面を反射面とした回転楕円面反射鏡の一方の焦点に赤外線ランプを設け、他方の焦点上に反射面から反射した輻射線を集中して加熱する方式の輻射線集中加熱装置において、回転楕円面反射鏡が、その断面として回転楕円面形状を有し、かつ、全体はリング状となる特殊形状からなることを特徴とする光学式浮遊帯域溶融装置。