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J-GLOBAL ID：200903092577202718

防汚性被膜の形成方法

Inventor： 池林 信彦
Applicant, Patent owner： ヘキスト合成株式会社
Agent (1)： 渡辺 秀夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992270691
Publication number (International publication number)：1994071219
Application date： Aug. 28, 1992
Publication date： Mar. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 合成樹脂エマルジョン被膜の汚れをコロイド珪酸の薄膜により防止する方法を提供する。【構成】 ガラス転移点が30°C以下の合成樹脂水性エマルジョンと顔料とからなり臨界顔料容積濃度以下の被覆用組成物を基材に被覆して形成した乾燥被膜の上に、平均粒子径が100nm以下のコロイド珪酸の水性分散液を塗布して被膜の表面にコロイド珪酸被膜を形成することを特徴とする、防汚性被膜の形成方法である。

Claim (excerpt)：

ガラス転移点が30°C以下の合成樹脂水性エマルジョンと顔料とからなり臨界顔料容積濃度以下の被覆用組成物を基材に被覆して形成した乾燥被膜の上に、平均粒子径が100nm以下のコロイド珪酸の水性分散液を塗布して被膜の表面にコロイド珪酸被膜を形成することを特徴とする、防汚性被膜の形成方法。

IPC (4)：

B05D 5/00 ,  B05D 1/36 ,  B05D 7/24 301 ,  B05D 7/24 302