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J-GLOBAL ID：200903092587979605
基板洗浄装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996090581
Publication number (International publication number)：1997260330
Application date： Mar. 18, 1996
Publication date： Oct. 03, 1997
Summary：
【要約】【課題】 薬液を用いた基板洗浄を好適に実施できる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 ノズル5(5a)から基板上に洗浄液を供給し、枚葉処理で基板の洗浄を行う基板洗浄装置において、2種類以上の液(薬液や純水など)を各々秤量する秤量部11と、秤量された各液を調合(混合)する調合部12と、調合部12で調合した洗浄液を貯留する貯留部13を備えた液調合ユニット6を基板洗浄装置に付設し、その装置の基板洗浄のタイミングで貯留部13に貯留している洗浄液(2種類以上の液を調合してつくった洗浄液)をノズル5(5a)から基板上に供給して基板洗浄するように構成した。
Claim (excerpt)：
ノズルから基板上に洗浄液を供給し、枚葉処理で基板の洗浄を行う基板洗浄装置において、2種類以上の液の供給を受けてそれら液を調合して洗浄液をつくりだす調合手段を設け、前記調合した洗浄液をノズルから基板上に供給するように構成したことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304 351
, B05C 5/00
, B08B 3/02
H01L 21/304 341 N
, H01L 21/304 351 S
, B05C 5/00 Z
, B08B 3/02 Z
