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J-GLOBAL ID：200903092594642330

研磨組成物

Inventor： デリル ディー.ジェイ.オールマン ,  ウィリアム ジェイ.クロスビー ,  ジェイムズ エイ.マイオロ
Applicant, Patent owner： シンバイオス・ロジック・インコーポレイテッド
Agent (1)： 西山 善章 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996344898
Publication number (International publication number)：1997285956
Application date： Dec. 25, 1996
Publication date： Nov. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 研磨活性及び消費レートが改善されていて、平坦で欠陥のない表面を得ることができる研磨組成物を提供する。【解決手段】 基体の研磨用研磨組成物であって、研磨メディア粒子と、この研磨メディア粒子を懸濁させてテンポラリー・フィルムを前記基体上に形成するためのフィルム形成バインダと、を含有する。このテンポラリー・フィルムは、その後に行われる研磨洗浄において溶解可能であり、これにより、研磨メディア粒子が解放されて前記基板が研磨されるようになっている。好ましくは、研磨組成物は、前記研磨メディア粒子を前記フィルム形成バインダに懸濁させることで前記テンポラリー・フィルムの形成を容易化する溶媒を含有する。

Claim (excerpt)：

基体の研磨用研磨組成物であって、この組成物は、研磨メディア粒子と、前記研磨メディア粒子を懸濁させてテンポラリーフィルムを前記基体上に形成するためのフィルム形成バインダと、を含有し、前記テンポラリーフィルムは、その後に行われる研磨洗浄において溶解可能であり、これにより、研磨メディア粒子が解放されて前記基板が研磨されることを特徴とする研磨組成物。