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J-GLOBAL ID：200903092654795719

干渉露光方法

Inventor： 河村 浩充
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 寒川 誠一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991234968
Publication number (International publication number)：1993072408
Application date： Sep. 13, 1991
Publication date： Mar. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 回折格子の製造に使用される干渉露光方法の改良に関し、格子ピッチが不均一に分布する不均一ピッチの回折格子の製造を可能にする干渉露光方法を提供することを目的とする。【構成】 被露光体1に対して垂直にハーフミラー2を配設し、光源4から発する複数の単波長の光が、被露光体1の垂線に対して同一の入射角θ0 をもって互いに逆方向から入射するように、ハーフミラー2を挟んで互いに逆の位置に各1個の反射鏡3を設けて被露光体を露光するように構成するか、または、光源4から発する単波長の光が、被露光体1の垂線に対して同一の入射角θ1 とθ2 とをもって互いに逆方向から入射するように、ハーフミラー2を挟んで互いに逆の位置に各1個の第2のハーフミラー5と第2のハーフミラー5を挟んで互いに逆の位置に各1個の反射鏡6とを設けて被露光体を露光するように構成する。

Claim (excerpt)：

被露光体(1)に対して垂直にハーフミラー(2)を配設し、光源(4)から発する複数の単波長の光が、前記被露光体(1)の垂線に対して同一の入射角(θ0 )をもって互いに逆方向から入射するように、前記ハーフミラー(2)を挟んで互いに逆の位置に各1個の反射鏡(3)を設けて前記被露光体(1)を露光することを特徴とする干渉露光方法。

IPC (2)：

G02B 5/18 ,  G03F 7/20