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J-GLOBAL ID：200903092662673169

ガス溶解水製造装置

Inventor：
吉澤 道雄

About 吉澤 道雄


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 細井 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999103997
Publication number (International publication number)：2000297392
Application date： Apr. 12, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：
【要約】【課題】 ガス溶解装置のガス供給通路内において生じる凝縮水の排出を行なうに当り、簡単な構造で凝縮水の排出を行なうようにする。【解決手段】 電解装置20により発生する水素ガスを気液分離器22に送り、ここで水素ガスと水とを分離して水素ガスをガス溶解装置21に供給し、純水に水素ガスを溶解して水素溶解水を製造する。ガス溶解装置21のガス供給通路41内において生じる凝縮水を凝縮水排水管44を通して気液分離器22に排出する。
Claim (excerpt)：
水の電気分解により生じたガスを純水に溶解するためのガス溶解装置を有するガス溶解水製造装置において、ガス溶解装置のガス供給通路内において生じる凝縮水を気液分離機構を備えた装置内に排出するように構成したことを特徴とするガス溶解水製造装置。
IPC (2)：
C25B 1/04 ,  C25B 11/03
FI (2)：
C25B 1/04 ,  C25B 11/03
F-Term (9)：
4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BC04 ,  4K021CA01 ,  4K021CA09 ,  4K021CA11 ,  4K021CA15 ,  4K021DB31 ,  4K021DC03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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